紫外线光清洗灯，UV清洗灯基本介绍光清洗制程:使用UV是於1980年代初将光洗净法实用化，一直到90年代以改质为目的被广泛的应用。由UV而产生之氧化反应，其效果依被处理物之种类而定分为洗净和改质两大项而光处理法的基本原理UV是拥有杀菌能量的一种电磁波也是属於光的一种，其波长领域极广，100mm~400mm为紫外线放射范围，属於UV-C范围，因其波长短UV能量高，其值和很多有机物之化学结合之能量值相近，易起反应生成各种作用及效果，其中具代表的作用就是洗净.改质对塑料玻璃陶瓷或是耐蚀性佳之金属而言有显著的效果紫外线光清洗灯，UV清洗灯性能特点二、紫外光清洗的特点：1、是一种无接触方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。2、可 清除物体表面的碳和有机污染物。3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。4、保证产品的高可靠性和高成品率。5、产品表面清洗处理的均匀度一致。6、由於光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。紫外线光清洗灯，UV清洗灯技术参数型号（U,H）管径（D）管压(V)电流(mA)功率(W)安装长度(ｍｍ)弧长（ｍｍ）备注SVR40U17.595±545040270200SVR70U17.5100±580070370300SVR90U17.5130±580090530455SVR110U17.5130±5900110640565SVR160U17.5150±51000-1200160780705SVR200U17.5130±51200-1500200820755紫外线光清洗灯，UV清洗灯使用说明主要在液晶显示器件、半导体矽晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、矽晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点，目前在液晶显示器STN的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对於改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ITO膜与感光胶膜层， 涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品，用於纳米技术研究，产品经此UV光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在於制造工艺要求的不同。随著线路的精细化及产品的彩色比，LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。